Qualsiasi apparecchiatura elettronica contiene, al proprio interno, wafer di silicio monocristallino.
Ottenuto mediante processo Czochralski, il silicio monocristallino è composto da un singolo cristallo con un reticolo cristallino senza alcuna interruzione, o bordi di grano.
Il reticolo del cristallo può essere intrinseco, senza alcuna impurità, quindi ultra-puro, oppure essere drogato con piccole quantità di elementi estranei che permettono di modificare le sue capacità da semi-conduttore in modo controllato.
La disponibilità del silicio monocristallino a basso costo è stata la chiave per l’incredibile sviluppo tecnologico di quel periodo che prende il nome di “era del silicio”.
Nella produzione di wafer in silicio per la realizzazione dei dispositivi a semi-conduttore, il cristallo di silicio monocristallino non deve presentare nessun bordo di grano: la presenza di una qualsiasi imperfezione nel reticolo cristallino potrebbe provocare un malfunzionamento nel dispositivo elettronico, rendendolo completamente inaffidabile. L’industria elettronica ha investito molto denaro per la ricerca di un metodo di produzione affidabile ed efficiente.
Il silicio monocristallino può essere impiegato anche nella produzione di celle solari; tuttavia, dato che una cella fotovoltaica può sopportare una piccola imperfezione del reticolo cristallino, molto spesso il silicio monocristallino è sostituito dalla sua variante più economica, il silicio policristallino.